یک تیم تحقیقاتی موفق به ارائه فرآیند جدیدی برای لایهنشانی مواد از جنس سلنید قلع شده است. این فیلم لایه نازک با کمک روش لایهنشانی بخار شیمیایی آلی فلزی(MOCVD) تولید میشود و میتوان از آن برای ایجاد فیلمها روی سطوح بزرگ ویفر در دمای ۲۰۰ درجه سانتیگراد استفاده کرد. این روش دقت و مقیاسپذیری بالایی دارد. نتایج این پروژه در نشریه Advanced Materials به چاپ رسیده است.